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光纤光栅制作方法<1>
［摘要」本文介绍了光纤光栅的主要制作方法，以及近年来在光纤光栅制作方面的一些新
的进展。
「关键词」光纤光栅；光纤通信
1引言
1978年，加拿大通信研究中心的K．O．Hill及其合作者首次从接错光纤中观察到了光子诱
导光栅。Hill的早期光纤是采用488nm可见光波长的氛离子激光器，通过增加或延长注入光纤芯
中的光辐照时间而在纤芯中形成了光栅。后来Meltz等人利用高强度紫外光源所形成的干涉条纹
对光纤进行侧面横向曝光在该光纤芯中产生折射率调制或相位光栅， 1989年，第一支布拉格诺
振波长位于通信波段的光纤光栅研制成功。
近年来，随光纤光栅的重要性被人们所认识，各种光纤光栅的制作方法层出不穷，这些方
法各有其优缺点，下面分别进行评述。
2光纤光栅制作方法
2.1光敏光纤的制备
采用适当的光源和光纤增敏技术，可以在几乎所有种类的光纤上不同程度的写人光栅。所
谓光纤中的光折变是指激光通过光敏光纤时，光纤的折射率将随光强的空间分布发生相应的变
化，如这种折射率变化呈现周期性分布，并被保存下来，就成为光纤光栅。
光纤中的折射率改变量与许多参数有关，如照射波长、光纤类型、掺杂水平等。如果不进
行其它处理，直接用紫外光照射光纤，折射率增加仅为（10的负4次方）数量级便已经饱和，为
了满足高速通信的需要，提高光纤光敏性日益重要，目前光纤增敏方法主要有以下几种：1）掺
入光敏性杂质，如：锗、锡、棚等。2）多种掺杂（主要是B／Ge共接）。3）高压低温氢气扩散
处理。4）剧火。
2.2成栅的紫外光源
光纤的光致折射率变化的光敏性主要表现在244nm紫外光的错吸收峰附近，因此除驻波法
用488nm可见光外，成栅光源都是紫外光。大部分成栅方法是利用激光束的空间干涉条纹，所以
成栅光源的空间相干性特别重要。目前，主要的成栅光源有难分子激光器、窄线宽准分子激光
器、倍频Ar离子激光器、倍频染料激光器、倍频OPO激光器等，根据实验结果，窄线宽准分子激
光器是目前用来制作光纤光栅最为适宜的光源。它可同时提供193nm和244nm两种有效的写入波长
并有很高的单脉冲能量，可在光敏性较弱的光纤上写人光栅并实现光纤光栅在线制作。
2.3成栅方法
光纤光栅制作方法中的驻波法及光纤表面损伤刻蚀法，成栅条件苛刻，成品率低，使用受到
限制。目前主要的成栅有下列几种。
1）短周期光纤光栅的制作
a）内部写入法
内部写入法又称驻波法。将波长488nm的基模氛离子激光从一个端面耦合到错掺杂光纤中，
经过光纤另一端面反射镜的反射，使光纤中的人射和反射激光相干涉形成驻波。由于纤芯材料具
有光敏性，其折射率发生相应的周期变化，于是形成了与干涉周期一样的立体折射率光栅，它起
到了Bragg反射器的作用。已测得其反射率可达90％以上，反射带宽小于200MHZ。此方法是早期
使用的，由于实验要求在特制锗掺杂光纤中进行，要求锗含量很高，芯径很小，并且上述方法只
能够制作布拉格波长与写入波长相同的光纤光栅，因此，这种光栅几乎无法获得任何有价值的应
用，现在很少被采用。示。用准分子激光干涉的方法，Meltz等人首次制作了横向侧面曝光的光
纤光栅。用两束相干紫外光束在接错光纤的侧面相干，形成干涉图，利用光纤材料的光敏性形成
光纤光栅。栅距周期由Λ=λuv／（2sinθ）给出。可见，通过改变人射光波长或两相干光束之
间的夹角，可以改变光栅常数，获得适宜的光纤光栅。但是要得到高反射率的光栅，则对所用光
源及周围环境有较高的要求。这种光栅制造方法采用多脉冲曝光技术，光栅性质可以精确控制，
但是容易受机械震动或温度漂移的影响，并且不易制作具有复杂截面的光纤光栅，目前这种方法
使用不多。
c）光纤光栅的单脉冲写入
由于难分子激光具有很高的单脉冲能量，聚焦后每次脉冲可达J·cm－2，近年来又发展了用
单个激光脉冲在光纤上形成高反射率光栅。英国南安普敦大学的Archambanlt等人对此方法进行
了研究，他们认为这一过程与二阶和双光子吸收有关。由于光栅成栅时间短，因此环境因素对成
栅的影响降到了最低限度。此外，此法可以在光纤技制过程中实现，接着进行涂覆，从而避免了
光纤受到额外的损伤，保证了光栅的良好强度和完整性。这种成栅方法对光源的要求不高，特别
适用于光纤光栅的低成本、大批量生产。
d）相位掩膜法
将用电子束曝光刻好的图形掩膜置于探光纤上，相位掩膜具有压制零级，增强一级衍射的功
能。紫外光经过掩膜相位调制后衍射到光纤上形成干涉条纹，写入周期为掩膜周期一半的Bragg
光栅。这种成栅方法不依赖于人射光波长，只与相位光栅的周期有关，因此，对光源的相干性要
求不高，简化了光纤光栅的制造系统。这种方法的缺点是制作掩膜复杂，为使KrF准分子激光光
束相位以知间。隔进行调制，掩膜版一维表面间隙结构的振幅周期被选为4π（nilica－1）／
（A·λKrF）=π，这里A是表面间隙结构的振幅。这样得到的相位掩膜版可使准分子激光光束通
过掩膜后，零级光束小子衍射光的5％，人射光束转向+1和-1级衍射，每级衍射光光强的典型值
比总衍射光的35％还多。用低相干光源和相位掩膜版来制作光纤光栅的这种方法非常重要，并且
相位掩膜与扫描曝光技术相结合还可以实现光栅耦合截面的控制，来制作特殊结构的光栅。该方
法大大简化了光纤光栅的制作过程，是目前写入光栅极有前途的一种方法。
2）长周期光纤光栅的制作
a）掩膜法
掩膜法是目前制做长周期光纤光栅最常用的一种方法。实验中采用的光纤为光敏光纤，PC为
偏振控制器，AM为振幅掩膜，激光器照射数min后，可制成周期60μm～1mm范围内变化的光栅，
这种方法对紫外光的相干性没有要求。
b）逐点写人法
此方法是利用精密机构控制光纤运动位移，每隔一个周期曝光一次，通过控制光纤移动速度
可写入任意周期的光栅。这种方法在原理上具有最大的灵活性，对光栅的耦合截面可以任意进行
设计制作。原则上，利用此方法可以制作出任意长度的光栅，也可以制作出极短的高反射率光纤
光栅，但是写人光束必须聚焦到很密集的一点，因此这一技术主要适用于长周期光栅的写入。它
的缺点是需要复杂的聚焦光学系统和精确的位移移动技术。目前，由于各种精密移动平台的研制，
这种长周期光纤光栅写入方法正在越来越多的被采用。
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